Trung Quốc chậm hơn ASML 10 năm về công nghệ chế tạo chip EUV

⚡ TRUNG QUỐC CHẬM HƠN ASML 10 NĂM VỀ CÔNG NGHỆ CHẾ TẠO CHIP EUV

Trung Quốc khó có thể bắt kịp các cỗ máy EUV chuyên sản xuất chip tiên tiến của hãng ASML (Hà Lan) trong vòng 10 năm tới, theo một báo cáo mới từ ngân hàng đầu tư UBS. Các máy quang khắc EUV là mắt xích quan trọng trong ngành sản xuất chip tiên tiến toàn cầu, và nếu không có chúng, việc chế tạo các con chip mới nhất sẽ trở nên phức tạp và tốn kém. Các lệnh hạn chế của Mỹ đối với Trung Quốc ngăn cản các nhà sản xuất chip lớn của nước này tiếp cận máy EUV, và UBS chỉ ra rằng Trung Quốc có thể vượt qua khoảng cách về công nghệ quang khắc DUV dựa trên ngâm (immersion-based DUV) cũ nhanh hơn nhiều so với công nghệ EUV.

Sự phát triển công nghệ chế tạo chip EUV của Trung Quốc tương tự như ASML vào năm 2004, theo UBS

Trở lại giai đoạn 2003 và 2004, ASML đã tiến hành thử nghiệm chức năng và chân không cho các công cụ EUV của mình nhằm giảm thiểu rủi ro sản xuất cho các nút 45 nanomet và tiên tiến hơn. Cùng khoảng thời gian đó, các gương tiên tiến có khả năng hoạt động với bước sóng 13.5 nm đang được phát triển, và vì các nguồn sáng truyền thống bị giới hạn khi làm việc với EUV, ASML cũng đang nỗ lực phát triển các công nghệ la-de và plasma.

Giờ đây, ASML đang tập trung phát triển các hệ thống quang khắc EUV có độ phơi sáng cao (high-NA EUV), sử dụng các gương và quang học có khẩu độ số lớn để tăng độ nét và lấy nét. Cả hai hệ thống này đánh dấu một bản nâng cấp đáng kể so với các hệ thống DUV truyền thống vốn ban đầu dựa vào không khí và sau đó là nước siêu tinh khiết cho một số giai đoạn trong quy trình quang khắc.

Bây giờ, một báo cáo mới từ ngân hàng đầu tư UBS tuyên bố rằng khi nói đến việc phát triển EUV, tiến ộ của Trung Quốc tương tự như vị trí của ASML vào năm 2004. Do đó, ngân hàng này tin rằng quốc gia châu Á sẽ không thể đạt được sự ngang bằng với ASML về EUV trong mười năm tới. Ngân hàng lưu ý rằng ASML vẫn phụ thuộc nhiều vào Trung Quốc về doanh số bán hàng, với 33% doanh thu năm 2025 của hãng đến từ quốc gia này, đánh dấu một mức tăng đáng kể so với 10% trước năm 2020.

Kết luận về tiến độ EUV dựa trên các bằng sáng chế, theo ngân hàng đầu tư. Hai công ty mà UBS tin là quan trọng trong lĩnh vực thiết bị sản xuất là Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) được nhà nước hậu thuẫn và công ty khởi nghiệp Shanghai Yuliangsheng Technology Co., Ltd. Tuy nhiên, thay vì EUV, các công ty này cần được theo dõi về sự phát triển của công nghệ cực tím sâu (DUV), theo UBS.

Ngân hàng này cho biết thêm rằng trái ngược với EUV, Trung Quốc có thể bắt kịp ASML về công nghệ quang khắc DUV ngâm trong vòng hai đến năm năm. Quang khắc ngâm, còn được gọi là quang khắc ướt, sử dụng một lớp nước siêu tinh khiết để giảm bước sóng của ánh sáng, tăng độ phân giải và chiều sâu tiêu cự.

Tuy nhiên, bất chấp những tiến bộ này, quốc gia này sẽ tiếp tục phụ thuộc vào ASML do sự khác biệt về năng suất và thông lượng, UBS tin tưởng. Dù vậy, ngân hàng này đưa ra mô hình kịch bản xấu nhất đối với ASML dựa trên các hạn chế mới đối với doanh số bán DUV sang Trung Quốc và kỳ vọng Trung Quốc sẽ chiếm từ 15% đến 20% doanh thu của ASML vào năm 2027.

🗞 Nguồn: Wccftech

#vgsnews #vgs #tintuc